РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология/2010/№ 9/
В наличии за
40 руб.
Купить
Облако ключевых слов*
* - вычисляется автоматически
Недавно смотрели:

Кинетические закономерности катодного внедрения таллия в медь

Работа посвящена таллийсодержащим соединениям на основе меди как наиболее перспективным в семействе высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), используемых в полупроводниковой технике.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
С.С. Попова, О.Н. Щербинина КИНЕТИЧЕСКИЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ КАТОДНОГО ВНЕДРЕНИЯ ТАЛЛИЯ В МЕДЬ (Энгельсский технологический институт (филиал) Саратовского государственного технического университета) e-mail: tep@techn.sstu.ru Методом электрохимического катодного внедрения предложено модифицировать медный электрод в широком диапазоне концентраций растворов TlNO3 при различных потенциалах. <...> Лазерный микроспектральный анализ позволил оценить распределение таллия по глубине. <...> Рентгеновские дифрактограммы показали, что, наряду с твердым раствором α-Tl, формируются оксиды Tl2O3, Cu2O. <...> Ключевые слова: кинетика, диффузия, катод, таллий, внедрение Таллийсодержащие соединения на основе оксида меди можно отнести к числу наиболее перспективных в семействе высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), используемых в полупроводниковой технике [1]. <...> Предлагаемые в настоящее время методы синтеза ВТСП покрытий, в том числе электрохимические [4], включают в качестве обязательной стадии высокотемпературную обработку, которая может приводить к серьезным осложнениям из-за различия коэффициентов теплового расширения подложки и покрытия. <...> Например, [6] путем электровыделения из водных растворов соответствующих солей при комнатной температуре 40 на поверхности медного анода получены покрытия из соединений состава таллий – барий – медь. <...> Нами исследовалась возможность получения кислородсодержащих соединений системы Ba –Tl –Cu [7] путем электровыделения таллия из водных растворов его солей и последующего внедрения бария из раствора соли бария в ДМФ на Cu электроде по методу электрохимического внедрения. <...> Катодную обработку меди проводили в потенциостатическом режиме при потенциалах от -0,1 до -0,5 В (шаг 0,1 В) в течение 40 мин в водных растворах TlNO3 следующих концентраций: 0,1; 0,25; 0,5; 1,0 моль/л в ячейке с разделенными катодным и анодным пространствами. <...> 2) указывает на образование твердого раствора Tl(Cu), но уже через 1–2 мин на электроде достигается <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: