Кинетические закономерности катодного внедрения таллия в медь
Работа посвящена таллийсодержащим соединениям на основе меди как наиболее перспективным в семействе высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), используемых в полупроводниковой технике.
Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
С.С. Попова, О.Н. Щербинина
КИНЕТИЧЕСКИЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ КАТОДНОГО ВНЕДРЕНИЯ ТАЛЛИЯ В МЕДЬ
(Энгельсский технологический институт (филиал)
Саратовского государственного технического университета)
e-mail: tep@techn.sstu.ru
Методом электрохимического катодного внедрения предложено модифицировать
медный электрод в широком диапазоне концентраций растворов TlNO3 при различных
потенциалах. <...> Лазерный микроспектральный анализ позволил оценить распределение
таллия по глубине. <...> Рентгеновские дифрактограммы показали, что, наряду с
твердым раствором α-Tl, формируются оксиды Tl2O3, Cu2O. <...> Ключевые слова: кинетика, диффузия, катод, таллий, внедрение
Таллийсодержащие соединения на основе
оксида меди можно отнести к числу наиболее
перспективных в семействе высокотемпературных
сверхпроводников (ВТСП), используемых в полупроводниковой
технике [1]. <...> Предлагаемые в
настоящее время методы синтеза ВТСП покрытий,
в том числе электрохимические [4], включают
в качестве обязательной стадии высокотемпературную
обработку, которая может приводить к
серьезным осложнениям из-за различия коэффициентов
теплового расширения подложки и покрытия. <...> Например, [6]
путем электровыделения из водных растворов соответствующих
солей при комнатной температуре
40
на поверхности медного анода получены покрытия
из соединений состава таллий – барий – медь. <...> Нами исследовалась возможность получения
кислородсодержащих соединений системы
Ba –Tl –Cu [7] путем электровыделения таллия из
водных растворов его солей и последующего внедрения
бария из раствора соли бария в ДМФ на Cu
электроде по методу электрохимического внедрения. <...> Катодную обработку меди проводили
в потенциостатическом режиме при потенциалах
от -0,1 до -0,5 В (шаг 0,1 В) в течение 40
мин в водных растворах TlNO3 следующих концентраций:
0,1; 0,25; 0,5; 1,0 моль/л в ячейке с
разделенными катодным и анодным пространствами. <...> 2) указывает на
образование твердого раствора Tl(Cu), но уже через
1–2 мин на электроде достигается <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности
Похожие документы: