Способ определения плотности поверхностных состояний в гетероструктурах CdS/Si(p) на основе анализа вольт-фарадных характеристик
Представлен способ определения плотности поверхностных состояний в гетероструктурах по частотной зависимости вольт-фарадных характеристик для случая, когда заряд поверхностных состояний зависит от приложенного напряжения постоянного смещения. Приведены результаты исследования гетероструктуры Cd/Si (p), изготовленной методом гидрохимического осаждения.
Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
В. В. Трегулов
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПЛОТНОСТИ ПОВЕРХНОСТНЫХ
СОСТОЯНИЙ В ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ CdS/Si(p) НА ОСНОВЕ
АНАЛИЗА ВОЛЬТ-ФАРАДНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК
Аннотация. <...> Представлен способ определения плотности поверхностных состояний
в гетероструктурах по частотной зависимости вольт-фарадных характеристик
для случая, когда заряд поверхностных состояний зависит от приложенного
напряжения постоянного смещения. <...> Приведены результаты исследования
гетероструктуры CdS/Si(p), изготовленной методом гидрохимического
осаждения. <...> Введение
В настоящее время гетероструктуры CdS/Si(p) широко применяются
в солнечной энергетике в качестве фотоэлектрических преобразователей
(ФЭП). <...> По таким параметрам, как низкая стоимость, отношение мощности
к массе, гетероструктурные ФЭП успешно конкурируют с традиционными
кремниевыми солнечными элементами на основе обычных p–n-переходов. <...> В то же время на электрофизические характеристики гетероструктур существенное
влияние оказывает наличие дефектов на гетерогранице. <...> При этом на гетерогранице возникают поверхностные
состояния с глубокими энергетическими уровнями (ГУ), которые
являются центрами рекомбинации носителей заряда и способствуют
снижению контактной разности потенциалов гетероструктуры, что приводит
к ухудшению эффективности преобразования ФЭП [1]. <...> Таким образом, определение плотности поверхностных состояний в гетероструктурах
является актуальной задачей. <...> Для исследования характеристик гетероструктур широко используется
метод измерения вольт-фарадных характеристик (ВФХ). <...> Физика
=ε + ε ; C – емкость гетероперехода; q – заряд
электрона; 0ε – диэлектрическая постоянная, nε и pε – диэлектрические
где Bq2 npN Nам
дм
() 1
проницаемости полупроводников п- и p-типа соответственно; дмN и амN –
концентрация мелкой донорной и акцепторной примеси в этих полупроводниках;
dV – контактная разность потенциалов; V – постоянное обратное
напряжение смещения; SSQ – заряд, сосредоточенный <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности
Похожие документы: