РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология/2013/№ 10/

ИМПЕДАНС АНОДНЫХ ПРОЦЕССОВ НА FeSi-ЭЛЕКТРОДЕ В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ

Методом импедансной спектроскопии изучено поведение FeSi-электрода в растворе 0,5 M H2SO4 в области анодных потенциалов от 0 до 2,2 В. Спектры импеданса интерпретированы в предположении о формировании на поверхности силицида железа оксидной пленки, преимущественно состоящей из SiO2. Проанализирована зависимость параметров эквивалентной электрической схемы от потенциала электрода. Рассчитана толщина оксидной пленки.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: