Влияние отжига на морфологию поверхности и выходные параметры резистивных структур

отжиг резистивные структуры резистивные пленки рекристаллизация физико-математические модели режимы конденсации металлопленочные структуры морфология поверхности пленок термическая обработка хромоникелевые сплавы

Моделирование модуляции светового потока в оптической системе волоконно-оптического преобразователя, Единый параллельный алгоритм методов приведенных направлений для решения задачи нелинейной оптимизации с ограничениями-неравенствами, ...

Поволжский регион УДК 621.316.8 И. А. Аверин, Ю. В. Аношкин, Р. М. Печерская ВЛИЯНИЕ ОТЖИГА НА МОРФОЛОГИЮ ПОВЕРХНОСТИ И ВЫХОДНЫЕ ПАРАМЕТРЫ РЕЗИСТИВНЫХ СТРУКТУР Представлены результаты исследования влияния отжига в воздушной среде на свойства пленок и параметры структур на их основе. <...> Показано, что отжиг приводит к рекристаллизации структуры резистивных пленок, вызывающей изменение свойств, морфологии поверхности пленок и стабилизацию выходных параметров резистивных структур. <...> Разработана физикоматематическая модель управления выходными параметрами резистивных структур за счет выбора режимов конденсации и отжига. <...> Введение Для изготовления чувствительных элементов преобразователей информации широко применяются многокомпонентные металлопленочные резистивные структуры на основе хромоникелевых сплавов, которые получают методом термического испарения в вакууме, обеспечивающим как заданные свойства пленок, так и морфологию поверхности, определяющую поверхностные явления, а следовательно, и выходные параметры резистивных структур. <...> Управление свойствами пленок хромоникелевых сплавов достигается за счет их термической обработки в воздушной среде [1–3], вызывающей отжиг дефектов и рекристаллизацию структуры пленки. <...> 1 Методика эксперимента Резистивные структуры на основе хромоникелевых сплавов различного состава синтезируют методом термического испарения в вакууме на подложках из слюды и ситалла. <...> Контактные площадки к резистивным структурам формируют из Al и Cu. <...> Форму, размеры резистивных структур и контактных площадок задают с помощью биметаллических масок. <...> Отжиг структур производят в воздушной среде в диапазоне температур от 350 до 700 K. <...> Атомно-силовой микроскоп позволяет получать трехмерные изображения топологии поверхности пленок с латеральным разрешением, сравнимым с растровой электронной микроскопией, и визуализировать отдельные фрагменты поверхности пленки. <...> Сопротивление <...>

• Похожие документы из РУАЭСТ
• |
• Похожие документы из Руконт